トップ
 
EQUIPMENT
設備情報
Equipment
検査設備紹介
  • 蛍光X線膜厚計FT110A
                  
    蛍光X線膜厚計FT110A
    仕様 FT110A(㈱日立ハイテクアナリシス社製)、
    上面垂直照射方式
    用途 金属材料上のめっき厚測定、簡易スペクトル分析(定性分析)。
    2層以下のめっき厚での測定対応可能
  • 蛍光X線膜厚計FT150h画像
    蛍光X線膜厚計FT150h
    仕様 FT150h(㈱日立ハイテクアナリシス社製)、
    上面垂直照射方式
    用途 金属材料上のめっき厚測定、簡易スペクトル分析(定性分析)、微小部の薄膜めっきを高精度で
    測定。
    3層以上の多層めっき厚での測定対応可能。
  • 蛍光X線分析装置EA-1400画像
    蛍光X線分析装置EA-1400
    仕様 EA-1400(㈱日本ハイテクアナリシス社製)、
    下面垂直照射方式
    用途 製品中に含有される元素の測定。
  • 画像測定器QV-X404T1C-E画像
    画像測定器QV-X404T1C-E
    仕様 QV-X404T1C-E(㈱ミツトヨ社製)、
    非接触式三次元画像測定機
    用途 XYZ法測定、めっきエリア自動測定、カット寸法測定
  • 画像寸法測定器IM-7000画像
    画像寸法測定器IM-7000
    仕様 IM-7000(㈱キーエンス社製)
    用途 瞬時に高精度な画像寸法を自動測定
  • 高さ・平面度測定器HM-1200画像
    高さ・平面度測定器HM-1200
    仕様 HM-1200(㈱キーエンス社製)
    用途 高精度な高さ・平面度測定
  • 微小面分光色差計VSS-7700画像
    微小面分光色差計VSS-7700
    仕様 VSS-7700(日本電色工業㈱社製)
    用途 めっき表面の観察、粗さ測定、低倍率~高倍率での観察が可能
  • デジタルマイクロメータMU-501U画像
    デジタルマイクロメータMU-501U
    仕様 MU-501U(㈱ニコン社製)
    用途 厚み・高さの測定
Equipment
九州設備紹介
  • クリーンルーム
    クリーンルーム
                
    仕様 クリーントンネル型クリーンルーム
    (株式会社 大氣社 製)
    洗浄度クラス Class10
    (ISO14644-1,粒径0.1μ以上が10個以下)
    用途 半導体及び部品、精密機器の洗浄、外観検査、梱包・出荷
CONTACT
お問い合わせ
製品・お見積りに関するご質問・ご相談等、
お気軽にお問い合わせください。
受付時間 - 8:00~17:00(土日祝日・休業日を除く)